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Réacteur plasma à basse pression radiofréquence – tube CFx
Laboratoire
Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie
Département
Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux
Organisme(s) subventionnaire(s) :
iBiomat
Fournisseur (modèle)
Construit au laboratoire
Mise en fonction
2001
Description de l’équipement
Ce réacteur plasma à basse pression en forme de tube utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées.
Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour modifier la surface de métaux ou de gaufres (wafers) de silicium pour y déposer des revêtements fluorocarbonés.
Caractéristiques spécifiques
Gamme de pression : 100-700 mTorr
Gaz possibles : argon, oxygène, hydrogène, fluorocarbone C2F6
Surface traitée : plan dans un cylindre de 12 mm de diamètre
Tension de travail : ±300 V ou potentiel flottant
Fréquence de travail : 13,6 MHz
Mode : continu ou pulsé
Champs d’expertise de l’appareil
Modification de surface
Traitement par plasma à basse pression
Conditions d’utilisations
Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.
Coût de location (CAD)
Campus
À discuter avec la responsable
Hors campus académique
À discuter avec la responsable
Industries
À discuter avec la responsable
Réservation
Pascale Chevalier Ph. D.
pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca
418-525-4444 poste 52381
