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Réacteur plasma à basse pression radiofréquence – tube CFx

Laboratoire

Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie


Département

Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux


Organisme(s) subventionnaire(s) :

iBiomat


Fournisseur (modèle)

Construit au laboratoire


Mise en fonction

2001


Description de l’équipement

Ce réacteur plasma à basse pression en forme de tube utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées.


Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour modifier la surface de métaux ou de gaufres (wafers) de silicium pour y déposer des revêtements fluorocarbonés.


Caractéristiques spécifiques


  • Gamme de pression : 100-700 mTorr

  • Gaz possibles : argon, oxygène, hydrogène, fluorocarbone C2F6

  • Surface traitée : plan dans un cylindre de 12 mm de diamètre

  • Tension de travail : ±300 V ou potentiel flottant

  • Fréquence de travail : 13,6 MHz

  • Mode : continu ou pulsé


Champs d’expertise de l’appareil


  • Modification de surface

  • Traitement par plasma à basse pression


Conditions d’utilisations

Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.


Coût de location (CAD)


Campus

À discuter avec la responsable


Hors campus académique

À discuter avec la responsable


Industries

À discuter avec la responsable


Réservation

Pascale Chevalier Ph. D.

pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca

418-525-4444 poste 52381





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