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Réacteur plasma à basse pression radiofréquence pour implantation ionique – PBII300

Laboratoire

Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie


Département

Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux


Organisme(s) subventionnaire(s) :

iBiomat


Fournisseur (modèle)

Plasmionique


Mise en fonction

2014


Description de l’équipement

Ce réacteur plasma à basse pression utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées.


Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour modifier la surface de métaux par implantation ionique.


Caractéristiques spécifiques


  • Gamme de pression : 5 mTorr

  • Gaz possibles : azote, oxygène

  • Surface traitée : variable

  • Tension de travail : 0 – 10 kV

  • Fréquence de travail : 13,6 MHz

  • Mode : continu ou pulsé


Champs d’expertise de l’appareil


  • Modification de surface

  • Traitement par plasma à basse pression


Conditions d’utilisations

Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.


Coût de location (CAD)


Campus

À discuter avec la responsable


Hors campus académique

À discuter avec la responsable


Industries

À discuter avec la responsable


Réservation

Pascale Chevalier Ph. D.

pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca

418-525-4444 poste 52381




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