Laboratoire

Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie

Département

Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux

Organisme(s) subventionnaire(s) :

iBiomat

Fournisseur (modèle)

Plasmionique

Mise en fonction

2008

Description de l’équipement

Ce réacteur plasma à couplage inductif (ICP) utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées pour traiter des substrats avec un plasma volumique. Il permet de faire du dépôt de revêtement de carbone type diamant (DLC). Il peut aussi être utilisé en mode sputtering sur une cible d’argent.

Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour modifier la surface de métaux et gaufres (wafers) de silicium pour faire du Diamond Like Coating (DLC) ou du DLC argent.

Caractéristiques spécifiques

• Type de réacteur : ICP, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

• Gamme de pression : 1-50 mTorr

• Gaz possibles : azote, oxygène, méthane, hydrogène

• Surface traitée : variable

• Tension de travail : ± 800 V

• Fréquence de travail : 13,6 MHz

• Mode : continu ou pulsé

  
  

Champs d’expertise de l’appareil

• Modification de surface

• Traitement par plasma à basse pression

Conditions d’utilisations

Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.

Coût de location (CAD)

Campus

À discuter avec la responsable

Hors campus académique

À discuter avec la responsable

Industries

À discuter avec la responsable

Réservation

Pascale Chevalier Ph. D.

pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca

418-525-4444 poste 52381