Laboratoire

Laboratoire de Biomatériaux et Bioingénierie

Département

Département de génie des mines, de la métallurgie et des matériaux

Organisme(s) subventionnaire(s) :

iBiomat

Fournisseur (modèle)

Plasmionique

Mise en fonction

2017

Description de l’équipement

Ce réacteur plasma à couplage inductif utilise un mélange gazeux ajustable en fonction des modifications de surface désirées pour traiter des substrats à distance du plasma.

Il est principalement utilisé dans le laboratoire pour déposer des fluorocarbones à la surface de métaux.

Caractéristiques spécifiques

• Type de réacteur : ICP, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

• Gamme de pression : 5 mTorr – 5 Torr

• Gaz possibles : azote, oxygène, argon, hydrogène, fluorocarbone (C2F6)

• Surface traitée : variable

• Tension de travail : potentiel flottant

• Fréquence de travail : 13,56 MHz

• Mode : continu ou pulsé

Champs d’expertise de l’appareil

• Modification de surface

• Traitement par plasma à basse pression

Conditions d’utilisations

Nécessité d’une formation sur l’appareil ou de l’utilisation de l’appareil par un professionnel de recherche. Disponible pour collaborateurs académiques et/ou industriel.

Coût de location (CAD)

Campus

À discuter avec la responsable

Hors campus académique

À discuter avec la responsable

Industries

À discuter avec la responsable

Réservation

Pascale Chevalier Ph. D.

pascale.chevallier@crchudequebec.ulaval.ca

418-525-4444 poste 52381